ICBP NANO
特徴
本装置は、機械加工とのインライン小ロッド熱処理炉として開発されました。
基本コンセプトは、ICBP FLEXと同様にフレキシビリティを持たせております。
加熱モジュールには、3室の加熱炉が積層式に配置され、加熱モジュール2基で6室の加熱室の構成が可能です、加熱モジュールは増産時にあとで増設することも可能です。
装置中心部に搬送モジュールを設けて装置外に配置された三軸の搬送機械機構により、準備室、加熱室、焼入れ室に搬送されます。焼入れは窒素の10バールの冷却を採用し、焼入れ油のための脱脂洗浄装置は、不要となりました。機械加工との同期生産が可能ですので、中間在庫の存在はありません。
アプリケーション
- 真空浸炭
- 真空浸炭窒化
- 焼入れ
- 高温焼き戻し
- 真空焼鈍
- ろう付け
- 焼結
主な仕様
- 有効寸法:500mmW x 600mmL x 250mmH
- 処理重量:100kg/ch グロス
- 電気容量:加熱屋60kW
- 使用温度:1050℃以下(標準)
- 最短処理サイクル:7.5分