ICBP
低压渗碳加工·真空热处理加工
工序
无表面氧化物的高性能强韧渗碳层的生成
对应于高压气体或油的材料的低应变淬火
生成分散有微细球状碳化物的高碳浓度层的CD设定
强韧高强度、抗回火性高的CD渗碳层的生成
真空调质(高压气体淬火或油淬火的选择)
真空退火
高浓度渗碳组织
高浓度渗碳:在马氏体基体中分散有粒状化为1～2μm的碳化物(FeCr)3C的组织显示高温软化阻力高且显著良好的点蚀特性。
回火软化阻力的提高
高温迅速渗碳:可以通过950℃～1000℃的渗碳处理进行短时间处理。
无晶界氧化
由于在真空下进行淬火,因此没有不完全淬火(晶界氧化)而维持光亮性的外观色。
a) 低圧浸炭層の光顕組織
b) Rxガス浸炭層の光顕組織
Microstructures of (a) INFRACARB and (b) Gascarburizing process. JIS SCM415, ECD=0.7mm